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16.(1)某反應體系中有反應物和生成物共五種物質(zhì):P、H3PO4、H2O、HNO3、NO2.已知該反應中發(fā)生的還原過程為:HNO3→NO2
①完成上述反應的化學方程式:P+5HNO3═H3PO4+5NO2↑+H2O.
②若反應轉移0.5mol電子,則產(chǎn)生的氣體在標況下的體積約為:11.2L.
(2)氮化硅是一種高溫陶瓷材料,其硬度大、熔點高、化學性質(zhì)穩(wěn)定.
①已知氮化硅中各原子最外層均達到8電子穩(wěn)定結構,請寫出氮化硅的化學式Si3N4
②現(xiàn)用四氯化硅和氮氣在氫氣氣氛保持下,加強熱發(fā)生反應,可得較高純度的氮化硅,反應的化學方程式為3SiCl4+2N2+6H2═Si3N4+12HCl.

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15.下列說法正確的是(  )
A.用苯萃取溴水中的溴時,將溴的苯溶液從分液漏斗下口倒出
B.使用容量瓶的第一步操作是先將容量瓶用蒸餾水洗滌后烘干
C.檢驗某溶液是否含有SO42-時,應取少量該溶液,依次加入BaCl2溶液和稀鹽酸
D.用10mL量筒量取9.2mL NaCl溶液

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14.下列關于硅的說法,不正確的是(  )
A.硅的化學性質(zhì)不活潑,常溫下不與任何物質(zhì)反應
B.硅的導電性能介于金屬和絕緣體之間,是良好的半導體材料
C.硅是非金屬元素,它的單質(zhì)是灰黑色有金屬光澤的固體
D.加熱到一定溫度時硅能與H2、O2等非金屬反應

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13.下列敘述及對應的離子方程式正確的是( 。
A.用氫氧化鈉溶液除去鋁表面的氧化膜:Al2O3+2OH-═2AlO2-+H2O
B.工業(yè)上用NO2與水反應制取NO:3NO2+H2O═NO3-+NO+2H+
C.用Cu除去CuCl2溶液中少量的FeCl3雜質(zhì):Cu+2Fe3+═Cu2++2Fe2+
D.向NaAlO2溶液中通入過量CO2制A(OH)3:2AlO2-+CO2+3H2O═2A(OH)3↓+CO32-

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12.膠體區(qū)別于其它分散系的本質(zhì)是( 。
A.膠體是一種混合物B.膠體粒子有顏色
C.膠體粒子直徑在1-100nm之間D.光束通過膠體時有丁達爾效應

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11.NA代表阿伏加德羅常數(shù)的值,下列說法正確的是( 。
A.7.8 g Na2O2與足量H2O反應,電子轉移1.204×1023 NA
B.16 g O2和O3的混合氣體中,含O原子 NA
C.1.12 L氯氣中含有0.1 NA個氯原子
D.標準狀況下,2.24 L水中含有0.1 NA個水分子

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10.下列氣體中,不能用排水法收集的是(  )
A.NOB.O2C.NH3D.CO

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9.下列敘述正確的是( 。
A.氯化鈉溶液在電流作用下電離成鈉離子和氯離子.
B.硫酸鋇難溶于水,但硫酸鋇是電解質(zhì)
C.溶于水后電離出氫離子的化合物都是酸
D.二氧化碳的水溶液能導電,故二氧化碳屬于電解質(zhì)

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8.下列各組氣體中,在通常條件下能穩(wěn)定共存的是(  )
A.NH3、O2、HClB.N2、O2、CO2C.CO2、NO、O2D.N2、H2S  Cl2

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7.如圖所示是分離混合物時常用的儀器,從左至右,可以進行的混合物分離操作分別是(  )
A.蒸餾、過濾、分液、蒸發(fā)B.蒸餾、蒸發(fā)、分液、過濾
C.分液、過濾、蒸餾、蒸發(fā)D.過濾、蒸發(fā)、分液、蒸餾

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