A.只有氧化性B.只有酸性和氧化性

C.沒有還原性D.既有氧化性又有還原性，還有酸性

A.硝酸鉀B.稀硫酸C.氯化鈉晶體D.氫氧化鈉

請?zhí)羁眨?/span>

(1)形成單質(zhì)A的原子的結(jié)構(gòu)示意圖為________，它的最高化合價為________。

(2)B的化學(xué)式為_______________，B和碳反應(yīng)生成A和E的化學(xué)方程式為_________________________。

(3)C的化學(xué)式為________，D的化學(xué)式為____________。

【題目】用來表示可逆反應(yīng)2A(g)＋B(g) 2C(g)(正反應(yīng)為放熱反應(yīng))的正確圖像為

A. A B. B C. C D. D

A.______；B.______；C.______； D.______。

A. 1:10:100:1000 B. 0:1:12:11 C. 14:13:12:11 D. 14:13:2:3

(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式___________。

②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式___________；H2還原SiHCl3過程中若混有O2，可能引起的后果是___________。

(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是___________(填字母)。

A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

B.氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料光導(dǎo)纖維

D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高

E.鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

【題目】下列實驗方法正確的是（ ）
A.用加熱、蒸發(fā)的方法除去粗鹽中的CaCl2、MgCl2等雜質(zhì)
B.用過濾的方法除去NaCl溶液中含有的少量淀粉膠體
C.用溶解、過濾的方法提純含有少量BaSO4的BaCO3
D.用丁達爾現(xiàn)象區(qū)分溶液與膠體

A. MgO B. Na2O2 C. Al2O3 D. Fe2O3

A. 純堿、液態(tài)氧、碘酒 B. 生石灰、單晶硅、熟石灰

C. 干冰、銅、氨氣 D. 空氣、氮氣、明礬