制備單質(zhì)硅的主要化學(xué)反應(yīng)如下：

     ①  ② 

③

     下列對(duì)上述三個(gè)反應(yīng)的敘述中不正確的是

A．①②③均為氧化還原反應(yīng)        B．①③為置換反應(yīng)

C．③中是氧化劑            D．三個(gè)反應(yīng)的反應(yīng)物中的硅元素均被還原

在AgNO₃、Cu（NO₃）₂和Zn（NO₃）₂混合溶液中，加入一定量的鐵粉，充分反應(yīng)后過(guò)濾，在濾渣中加入稀鹽酸，有氣體產(chǎn)生。則下列結(jié)論正確的是        

       A．濾液中一定有Fe（NO₃）₃                          

       B．濾渣只含Ag和Cu，一定無(wú)Zn

       C．濾渣中一定有Ag、Cu和Fe，一定無(wú)Zn 

       D．濾渣中一定有Ag、Cu、Fe和Zn

ClO₂是一種消毒殺菌效率高、二次污染小的水處理劑。實(shí)驗(yàn)室可通過(guò)以下反應(yīng)制得ClO₂：

       2KClO₃+H₂C₂O₄+H₂SO₄2ClO₂↑+K₂SO₄+2CO₂↑+2H₂O下列說(shuō)法正確的是（    ）w.w.w.k.s.5.u.c.o.m

       A．H₂C₂O₄在反應(yīng)中被氧化

       B．KClO₃在反應(yīng)中得到電子

       C．CO₂是還原產(chǎn)物

       D．4 molKClO₃參加反應(yīng)有8 mol電子轉(zhuǎn)移

有下列6種物質(zhì)：Na₂SO₄、Na₂SO₃、K₂SO₄、I₂、H₂SO₄、KIO₃

              組成一個(gè)氧化還原反應(yīng)，請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

       （1）將這6種物質(zhì)分別填入下面對(duì)應(yīng)的橫線上，組成一個(gè)未配平的化學(xué)方程式：

       ________＋Na₂SO₃＋________→ Na₂SO₄  ＋________＋________＋H₂O

       （2）反應(yīng)物中發(fā)生氧化反應(yīng)的物質(zhì)是_________（填化學(xué)式），被還原的元素是_______。

       （3）反應(yīng)中1mol氧化劑_______（填“得到”或“失去”）________mol電子。

       （4）請(qǐng)將反應(yīng)物的化學(xué)式及配平后的系數(shù)填入下列相應(yīng)的位置中：

□__________ ＋□__________ ＋□__________ →

有一未完成的離子方程式：

         +XO₃^—+6H⁺=3X₂+3H₂O，據(jù)此判斷X元素的最高化合價(jià)為

A．+7             B．+5              C．+4             D．-1

下列反應(yīng)中，SO₂被還原的是                                          （    ）

A．SO₂＋2NaOH ==Na₂SO₃          B. SO₂＋Cl₂＋2H₂O==H₂SO₄＋2HCl

C．SO₂＋2H₂S==3S＋2H₂O          D．SO₂＋NO₂==SO₃＋NO

工業(yè)上從硒的廢料中提取硒的方法之一是用H₂SO₄和NaNO₃處理廢料，獲得亞硒酸和少量硒酸。加入鹽酸共熱，硒酸被轉(zhuǎn)化為亞硒酸(2HCl+H₂SeO₄==H₂SeO₃+Cl₂+H₂O)，再將SO₂通入亞硒酸溶液中，單質(zhì)硒即析出。下列敘述正確的是             （    ）

A．H₂SeO₄的氧化性強(qiáng)于于Cl₂        B．亞硒酸氧化性強(qiáng)于亞硫酸

C．亞硒酸的還原性強(qiáng)于亞硫酸        D．析出1molSe需H₂SeO₃、SO₂、H₂O各1mol

在碘酸鈉（NaIO₃）的堿性溶液中通入氯氣，可以得到高碘酸鈉（Na₂H₃IO₆）。下列有關(guān)該反應(yīng)的說(shuō)法錯(cuò)誤的是w ww.ks 5u.co m

A．在該反應(yīng)中碘酸鈉作還原劑

B．堿性條件下，氯氣的氧化性強(qiáng)于高碘酸鈉

C．反應(yīng)中生成1 mol Na₂H₃IO₆，轉(zhuǎn)移2 mol電子

D．反應(yīng)中氧化產(chǎn)物與還原產(chǎn)物的物質(zhì)的量之比為2 : 1

(10分) FeCl3可用作印刷電路銅板腐蝕劑。為回收廢腐蝕液中的銅，必須對(duì)廢腐蝕液的組成進(jìn)行分析。某同學(xué)取廢腐蝕液200mL，分成甲、乙兩等份。向甲溶液中滴加AgNO3溶液至不再有沉淀產(chǎn)生，得到沉淀129.15g；向乙溶液中加入10g足量鐵粉，充分反應(yīng)，剩余固體質(zhì)量4.8g。計(jì)算中忽略溶液體積的變化。

⑴寫(xiě)出FeCl3溶液腐蝕印刷電路銅板的離子方程式，并標(biāo)出電子轉(zhuǎn)移的方向和數(shù)目                                             。

⑵廢腐蝕液中含有的Cl—離子的物質(zhì)的量濃度是            。

⑶計(jì)算廢腐蝕液中銅離子的物質(zhì)的量濃度（寫(xiě)出計(jì)算過(guò)程）。

銅的冶煉大致可分為：①富集：將硫化物礦進(jìn)行浮選；

②焙燒，主要反應(yīng)為：2CuFeS2+4O2=Cu2S+3SO2+2FeO(爐渣)；

③制粗銅，在1200℃發(fā)生的主要反應(yīng)為：

2Cu2S+3O2=2Cu2O+2SO2；2Cu2O+Cu2S=6Cu+SO2↑；

④電解精煉。

下列說(shuō)法正確的是                                                    （     ）

       A．上述灼燒過(guò)程的尾氣均可直接排入空氣

       B．由6mol CuFeS2生成6mol Cu，反應(yīng)共消耗15mol O2

       C．反應(yīng)2Cu2O+Cu2S=6Cu+SO2↑中，氧化劑只有Cu2O

       D．電解精煉時(shí)，粗銅應(yīng)與外電源正極相連