下列各組離子一定能大量共存的是（　�。�

工業(yè)上制備高純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：SiCl₄（g）+2H₂（g）═Si（s）+4HCl（g）△H=+Q kJ/mol（Q＞0）某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)（此條件下為可逆反應(yīng)），下列敘述中正確的是（　�。�

（2011?濰坊模擬）下列離子在指定溶液中一定能大量共存的是（　�。�
①加入Al能放出H₂的溶液中：Fe²⁺、Al³⁺、NO₃^-、Cl^-、S^2-
②在PH=11的溶液中：Na⁺、[Al（OH）₄]^-、NO₃^-、S^2-、SO₃^2-
③由水電離的c（H⁺）=10^-12mol?L^-1的溶液中：Cl^-、HCO₃^-、NO₃^-、NH₄⁺、F^-
④加入Mg能放出H₂的溶液中：Mg²⁺、NH₄⁺、Cl^-、K⁺、SO₄^2-．