題目列表(包括答案和解析)
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________________。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式_________________;H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________。
(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是__________________(填字母)。
A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高
E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋_______________________________。
硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:三硅酸鎂(2MgO·3SiO2·nH2O)被用來治療胃潰瘍,是因為該物質(zhì)不溶于水,服用后能中和胃酸,作用持久。寫出三硅酸鎂與胃酸(鹽酸)反應(yīng)的化學(xué)方程式:
硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式 。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式 ;H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是 。
(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是 (填字母)。
A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高
E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋 。
硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅 的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:
① 寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式
________________________________________________________________________
________________________________________________________________________。
② 整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式
________________________________________________________________________;
H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是
________________________________________________________________________。
(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是________(填字母)。
A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高
E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液, 振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋:
________________________________________________________________________
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(16分)硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:
制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:
(1)在制粗硅的反應(yīng)中,焦炭的作用是 。
(2)整個制備過程必須嚴格控制無水、無氧。
①SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式 ;②H2還原SiHCl3過程中若混O2,可能引起的后果是 。
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋 。
16.(1)水 濃硫酸 ;(2)檢查氣密性,將G彎管浸沒在盛有水的燒杯中,溫?zé)釤緽,觀察G管口,若有氣泡逸出,說明裝置的氣密性良好;
(3)先從A瓶逐滴滴加液體, 檢驗H2的純度;(4) , 。
17.(1) 2Fe3++H2S = S↓+2Fe2++2H+, Na2S+2H2OS↓+H2↑+2NaOH
或S2-+2H2OS↓+H2↑+2OH-,產(chǎn)物NaOH可循環(huán)使用,也可得副產(chǎn)品H2;
(2)陽離子(Na+),鈦(或石墨);
(3)4, 正四面體。
18.(1)Al(OH)3+OH---=AlO2-+2H2O ; (2);
(3)SO2+Cl2+2H2O=H2SO4+2HCl ; (4)HCl>H2S;
(5)S2->Cl ->Na+>Al3+;(6)Cl2O7(l)+H2O(l)=2HClO4(aq);△H=-4QkJ/mol。
19. (1) ①SiHCl3+H2= Si+3HClwww. Ks5 u.com
②3SiHCl3+3H2O===H2SiO3+H2↑+3HCl;高溫下,H2遇O2發(fā)生爆炸。(2)ABCE
(3)生成白色絮狀沉淀,又刺激性氣味的氣體生成。
20. (1)NaCl; (2)Cu+2H2SO4CuSO4+ SO2↑+2H2O,高溫、催化劑; (3)CH3CH2OH。
21. ⑴b ; ⑵加熱褪色后的溶液,若溶液恢復(fù)紅色,則原通入氣體為SO2,若溶液不變紅,則原通入氣體是O3 ; ⑶2Fe+3Cl22FeCl3 Fe+SFeS(其他合理答案均給分);
⑷①H-C≡N ; ⑸16w1:(44w2-aw1)。
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