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多晶硅被稱為“微電子大廈的基石 .制備中副產(chǎn)物以SiCl4為主.它對環(huán)境污染很大.能遇水強烈水解.放出大量的熱.研究人員利用SiCl4水解生成的鹽酸和鋇礦粉(主要成份為BaCO3.且含有鈣.鐵.鎂等離子)制備BaCl2·2H2O.工藝流程如下.已知常溫下Fe3+.Mg2+完全沉淀的pH分別是:3.4.12.4. (1)SiCl4水解控制在40℃以下的原因是 . 已知:SiCl4(s)+H2(g)=SiHCl3 ΔH1=47 kJ/mol SiHCl3(s)+H2 ΔH2=189 kJ/mol 則由SiCl4制備硅的熱化學(xué)方程式為 . (2)加鋇礦粉時生成BaCl2的離子反應(yīng)方程式是 . (3)加20% NaOH調(diào)節(jié)pH=12.5.得到濾渣A的主要成分是 .控制溫度70℃的目的是 . (4)BaCl2濾液經(jīng)蒸發(fā)濃縮.降溫結(jié)晶.過濾.再經(jīng)真空干燥后得到·2H2O.實驗室中蒸發(fā)濃縮用到的含硅酸鹽的儀器有種. (5)為體現(xiàn)該工藝的綠色化學(xué)思想.該工藝中能循環(huán)利用的物質(zhì)是 . 【查看更多】

題目列表(包括答案和解析)

多晶硅(硅單質(zhì)的一種)被稱為“微電子大廈的基石”，制備中副產(chǎn)物以SiCl₄為主，它對環(huán)境污染很大，能遇水強烈水解，放出大量的熱。研究人員利用SiCl₄水解生成的鹽酸和鋇礦粉(主要成分為BaCO₃，且含有鈣、鐵、鎂等離子)制備BaCl₂·2H₂O，工藝流程如圖所示。已知常溫下Fe³^＋、Mg²^＋完全沉淀的pH分別是3.4、12.4。

(1)SiCl₄水解控制在40 ℃的原因是___________________________________。
已知：SiCl₄(s)＋H₂(g)=SiHCl₃(s)＋HCl(g) ΔH₁＝＋47 kJ·mol^－¹
Si(s)＋3HCl(g)=SiHCl₃(s)＋H₂(g) ΔH₂＝－189 kJ·mol^－¹
則由SiCl₄制備硅的熱化學(xué)方程式為__________________________________。
(2)加鋇礦粉時生成BaCl₂的離子反應(yīng)方程式是_________________________。
(3)加20% NaOH溶液調(diào)節(jié)pH＝12.5，得到濾渣A的主要成分是________，控制溫度70 ℃的目的是____________________________________________。
(4)BaCl₂濾液經(jīng)蒸發(fā)濃縮、降溫結(jié)晶、過濾，再經(jīng)真空干燥后得到BaCl₂·2H₂O。實驗室中蒸發(fā)濃縮，用到的含硅酸鹽的儀器有__________種。
(5)為體現(xiàn)該工藝的綠色化學(xué)思想，該工藝中能循環(huán)利用的物質(zhì)是____________。

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多晶硅(硅單質(zhì)的一種)被稱為“微電子大廈的基石”，制備中副產(chǎn)物以SiCl₄為主，它對環(huán)境污染很大，能遇水強烈水解，放出大量的熱．研究人員利用SiCl₄水解生成的鹽酸和鋇礦粉(主要成份為BaCO₃，且含有鐵、鎂等離子)制備BaCl₂·2H₂O，工藝流程如下．已知：①常溫下Fe³⁺、Mg²⁺完全沉淀的pH分別是：3.4、12.4．

②M(BaCO₃)＝197 g/mol，M(BaCl₂·2H₂O)＝244 g/mol

(1)SiCl₄水解反應(yīng)的方程式為________．

已知：SiCl₄(s)＋H₂(g)SiHCl₃(s)＋HCl(g)　ΔH₁＝＋47 kJ/mol

SiHCl₃(s)＋H₂(g)Si(s)＋3HCl(g)　ΔH₂＝＋189 kJ/mol

則由SiCl₄制備硅的熱化學(xué)方程式為________．

(2)加鋇礦粉并調(diào)節(jié)pH＝7的作用是使BaCO₃轉(zhuǎn)化為BaCl₂和________．

(3)加20％　NaOH調(diào)節(jié)pH＝12.5，得到濾渣A的主要成分是________．

(4)BaCl₂濾液經(jīng)________、________、過濾、洗滌，再經(jīng)真空干燥后得到BaCl₂·2H₂O．

(5)10噸含78.8％　BaCO₃的鋇礦粉理論上最多能生成BaCl₂·2H₂O________噸．

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多晶硅（硅單質(zhì)的一種）被稱為“微電子大廈的基石”，制備中副產(chǎn)物以SiCl₄為主，它對環(huán)境污染很大，能遇水強烈水解，放出大量的熱．研究人員利用SiCl₄水解生成的鹽酸和鋇礦粉（主要成份為BaCO₃，且含有鐵、鎂等離子）制備BaCl₂?2H₂O，工藝流程如下．已知：①常溫下Fe³⁺、Mg²⁺完全沉淀的pH分別是：3.4、12.4．
②M （BaCO₃）=197g/mol，M（BaCl₂?2H₂O）=244g/mol

（1）SiCl₄水解反應(yīng)的方程式為

SiCl₄+4H₂O=H₄SiO₄↓+4HCl．

，SiCl₄水解控制在40℃的原因是

防止HCl揮發(fā)污染環(huán)境或控制SiCl₄的水解速率，防止反應(yīng)過于劇烈

．
（2）已知：SiCl₄（s）+H₂（g）=SiHCl₃（s）+HCl（g）△H₁=+47kJ/mol
SiHCl₃（s）+H₂（g）=Si（s）+3HCl（g）△H₂=+189kJ/mol則由SiCl₄制備硅的熱化學(xué)方程式為

SiCl₄（s）+2H₂（g）=Si（s）+4HCl（g）△H=+236kJ/mol

．
（3）加鋇礦粉并調(diào)節(jié)pH=7的作用是使BaCO₃轉(zhuǎn)化為BaCl₂和

使Fe³⁺完全沉淀

．
（4）加20% NaOH調(diào)節(jié)pH=12.5，得到濾渣A的主要成分是

Mg（OH）₂

．
（5）BaCl₂濾液經(jīng)

蒸發(fā)濃縮

、冷卻結(jié)晶、

過濾

、洗滌，再經(jīng)真空干燥后得到BaCl₂?2H₂O．

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（12分）多晶硅（硅單質(zhì)的一種）被稱為“微電子大廈的基石”，制備中副產(chǎn)物以SiCl₄為主，它環(huán)境污染很大，能遇水強烈水解，放出大量的熱。研究人員利用SiCl₄水解生成的鹽酸和鋇礦粉（主要成分為BaCO₃，且含有鐵、鎂等離子），制備BaCl₂．2H₂O，工藝流程如下：

已知：
①常溫下Fe³⁺、Mg²⁺完全沉淀的PH分別是3.4、12.4
②BaCO₃的相對分子質(zhì)量是197；BaCl₂．2H₂O的相對分子質(zhì)量是244
回答下列問題：
⑴SiCl₄發(fā)生水解反應(yīng)的化學(xué)方程式_______________________________________
⑵SiCl₄用H₂還原可制取純度很高的硅，當(dāng)反應(yīng)中有1mol電子轉(zhuǎn)移時吸收59KJ熱量，則該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為_____________________________________________
⑶加鋇礦粉調(diào)節(jié)PH=7的作用是①使BaCO₃轉(zhuǎn)化為BaCl₂②_______________________
⑷生成濾渣A的離子方程式__________________________________________
⑸BaCl₂濾液經(jīng)______、________、過濾、_________，再經(jīng)真空干燥后得到BaCl₂．2H₂O
⑹10噸含78.8% BaCO₃的鋇礦粉理論上最多能生成BaCl₂．2H₂O___________噸。