【題目】除去下列括號內的雜質,所加試劑和操作均正確的是
選項 | 需除雜的物質 | 試劑 | 操作 |
A | Cl2(HCl) | 飽和食鹽水 | 洗氣 |
B | NaBr溶液(NaI) | Cl2 | 洗氣 |
C | Cl2(H2O) | 堿石灰 | 洗氣 |
D | HNO3溶液(H2SO4) | BaCl 2溶液 | 過濾 |
A.AB.BC.CD.D
科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】Hg 是水體污染的重金屬元素之一。水溶液中的二價汞的主要存在形態(tài)與Cl-、OH-的濃度關系如圖所示[圖中涉及的物質或粒子只有Hg(OH)2 為難溶物,粒子濃度很小時常用負對數(shù)表示,如pH=-lgc(H+),pCl=-1gc(Cl-)]:
下列說法中錯誤的是
A. Hg(NO3)2固體溶于水通常會出現(xiàn)渾濁
B. 海水Cl-的濃度大于0.1mol/L,則其中汞元素的主要存在形態(tài)是Hg(OH)2
C. 少量Hg(NO3)2溶于0.001moL/L鹽酸后得到澄清透明溶液
D. 已知Ksp(HgS)=1.6×10-52,當c(S2-)=1×10-5mo/L 時,c(Hg2+)=1.6×10-47mo/L
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【題目】醋酸鎳[(CH3COO)2Ni]是一種重要的化工原料。一種以含鎳廢料(含NiS、Al2O3、FeO、CaO、SiO2)為原料,制取醋酸鎳的工藝流程圖如下:
相關離子生成氫氧化物的pH和相關物質的溶解性如下表:
金屬離子 | 開始沉淀pH | 沉淀完全pH | 物質 | 20℃溶解性(H2O) | |
Fe3+ | 1.1 | 3.2 | CaSO4 | 微溶 | |
Fe2+ | 5.8 | 8.8 | NiF2 | 可溶 | |
Al3+ | 3.0 | 5.0 | CaF2 | 難溶 | |
Ni2+ | 6.7 | 9.5 | NiCO3 | Ksp=9.6×10-6 |
(1)將粉碎的含鎳廢料酸浸時要不斷攪拌,粉碎和攪拌的目的是________________。
(2)調節(jié)pH步驟中,溶液pH的調節(jié)范圍是__________________________________。
(3)濾渣1和濾渣3主要成分的化學式分別是________________,_____________。
(4)氧化步驟中加入H2O2發(fā)生反應的離子方程式為____________________________。
(5)酸浸過程中,lmol NiS失去6NA個電子,同時生成兩種無色有毒氣體。該反應的化學方程式為____________________。
(6)保持其他條件不變,在不同溫度下對含鎳廢料進行酸浸,鎳浸出率隨時間變化如右圖。酸浸的最佳溫度與時間分別為:
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【題目】向5mLNaCl溶液中滴入一滴AgNO3溶液,出現(xiàn)白色沉淀,繼續(xù)滴加一滴KI溶液并振蕩,沉淀變?yōu)辄S色,再滴入一滴Na2S溶液并振蕩,沉淀又變成黑色,根據(jù)上述變化過程,分析此三種沉淀物的溶解度關系為 ( )
A. AgCl>AgI>Ag2S B. AgCl2S
C. AgCl=AgI=Ag2S D. AgI>AgCl>Ag2S
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【題目】
己知:
請回答下列問題:
(1)A的名稱是_____________。E中所含官能團的名稱是________________。
(2)C→D的反應類型是_____________,X的結構簡式為________________。
(3)D +G→光刻膠的化學方程式為_____________________________________。
(4)T是C的同分異構體,T具有下列性質或特征:①能發(fā)生水解反應和銀鏡反應;②能使溴水褪色;③屬于芳香族化合物。則T的結構有___________種,其中核磁共振氫譜為5組峰,且峰面積比為1:1:2:2:2的結構簡式為______________(已知:C=C—OH不穩(wěn)定)。
(5)根據(jù)自己已學知識并結合相關信息,寫出以CH3CH2OH為原料制備CH3CH2CH2COOH的合成路線流程圖(無機試劑任選)___________________。(合成路線流程圖示例:CH2 =CH2CH3CH2BrCH3CH2OH)
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【題目】“納米材料”是粒子直徑為1~100 nm之間的材料,納米碳就是其中的一種。某研究所將納米碳均勻地分散入蒸餾水中,得到的物質()
①是溶液 ②是膠體 ③具有丁達爾效應 ④能透過濾紙 ⑤靜置會立即形成沉淀
A.②③④B.②③⑤C.①④⑤D.①③④
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【題目】下列離子方程式正確的( )
A. 次氯酸鈉溶液中通入少量二氧化硫氣體:2ClO﹣+SO2+H2O═2HClO+SO
B. 向NaAlO2溶液中通過量CO2:AlO +CO2+H2O═Al(OH)3↓+CO
C. 電路板腐蝕液中的反應:Cu+2Fe3+═2Fe2++Cu2+
D. 小蘇打溶液與NaOH溶液混合:HCO +OH﹣═CO2↑+H2O
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