【題目】下列混合溶液中,各離子濃度的大小順序正確的是
A. 10 mL 0.1 mol/L氨水與10 mL 0.1 mol/L鹽酸混合:c(Cl)>c()>c(OH)>c(H+)
B. 10 mL 0.1 mol/L NH4Cl溶液與5 mL 0.2 mol/L NaOH溶液混合:c(Na+)=c(Cl)>c(OH)>c(H+)
C. 10 mL 0.1 mol/L CH3COOH溶液與5 mL 0.2 mol/L NaOH溶液混合:c(Na+)=c(CH3COO)>c(OH)>c(H+)
D. 10 mL 0.5 mol/L CH3COONa溶液與6 mL 1 mol/L鹽酸混合:c(Cl)>c(Na+)>c(OH)>c(H+)
【答案】B
【解析】
A.10mL0.1mol/L氨水與10 mL0.1mol/L鹽酸混合,恰好反應(yīng)生成氯化銨和水,溶液是氯化銨溶液,銨根離子水解顯酸性,離子濃度大小為c(Cl-)>c(NH4+)>c(H+)>c(OH-),故A錯(cuò)誤;
B.10mL 0.1mol/LNH4Cl溶液與5mL0.2mol/LNaOH溶液混合,恰好反應(yīng)生成氯化鈉和一水合氨,溶液呈堿性,溶液中離子濃度大小為c(Na+)=c(Cl-)>c(OH-)>c(H+),故B正確;
C.10mL0.1mol/LCH3COOH溶液與5mL0.2mol/LNaOH溶液混合,恰好反應(yīng)生成醋酸鈉溶液,溶液中醋酸根離子水解顯堿性,離子濃度大小為c(Na+)>c(CH3COO-)>c(OH-)>c(H+),故C錯(cuò)誤;
D.10mL0.5mol/LNaOH溶液與6mL1mol/L鹽酸混合,反應(yīng)后溶液中氯化氫過量,溶液呈酸性,離子濃度大小為:c(Cl-)>c(Na+)>c(H+)>c(OH-),故D錯(cuò)誤。
故選B。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】過氧化氫俗名雙氧水,醫(yī)療上利用它有殺菌消毒作用來清洗傷口。根據(jù)下列反應(yīng)回答問題:
A.
B.
C.
D.
(1)上述反應(yīng)中,H2O2僅體現(xiàn)氧化性的反應(yīng)是(填序號(hào),下同)_________,H2O2僅體現(xiàn)還原性的反應(yīng)是(填序號(hào),下同)_________,H2O2既體現(xiàn)氧化性又體現(xiàn)還原性的反應(yīng)是________。
(2)上述反應(yīng)說明H2O2、Ag2O、K2CrO4的氧化性由強(qiáng)到弱的順序是________
(3)某酸性反應(yīng)體系中發(fā)生的一個(gè)氧化還原的離子反應(yīng),反應(yīng)物和生成物共六種微粒:。已知該反應(yīng)中H2O2只發(fā)生了如下過程:H2O2→O2。
①寫出上述反應(yīng)的離子方程式并配平_______________________________________
②如果上述反應(yīng)中有6.72L(標(biāo)準(zhǔn)狀況)氣體生成,轉(zhuǎn)移的電子為_______mol。
(4)H2O2有時(shí)可作為礦業(yè)廢液消毒劑,有“綠色氧化劑”的美稱;如消除采礦業(yè)膠液中的氰化物(如KCN),發(fā)生以下反應(yīng):,試指出生成物A的化學(xué)式為________。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】為了紀(jì)念元素周期表誕生150周年,聯(lián)合國將2019年定為“國際化學(xué)元素周期表年”;卮鹣铝袉栴}:
(1)Ag與Cu在同一族,則Ag在周期表中_____(填“s”、“p”、“d”或“ds”)區(qū)。[Ag(NH3)2]+中Ag+空的5s軌道和5p軌道以sp雜化成鍵,則該配離子的空間構(gòu)型是_____。
(2)表中是Fe和Cu的部分電離能數(shù)據(jù):請(qǐng)解釋I2(Cu)大于I2(Fe)的主要原因:______。
元素 | Fe | Cu |
第一電離能I1/kJ·mol-1 | 759 | 746 |
第二電離能I2/kJ·mol-1 | 1561 | 1958 |
(3)亞鐵氰化鉀是食鹽中常用的抗結(jié)劑,其化學(xué)式為K4[Fe(CN)6]。
①CN-的電子式是______;1mol該配離子中含σ鍵數(shù)目為______。
②該配合物中存在的作用力類型有______(填字母)。
A.金屬鍵 B.離子鍵 C.共價(jià)鍵 D.配位鍵 E.氫鍵 F.范德華力
(4)MnO的熔點(diǎn)(1660℃)比MnS的熔點(diǎn)(1610℃)高,其主要原因是________。
(5)第三代太陽能電池利用有機(jī)金屬鹵化物碘化鉛甲胺(CH3NH3PbI3)半導(dǎo)體作為吸光材料,CH3NH3PbI3具有鈣鈦礦(AMX3)的立方結(jié)構(gòu),其晶胞如圖所示。
①AMX3晶胞中與金屬陽離子(M)距離最近的鹵素陰離子(X)形成正八面體結(jié)構(gòu),則M處于_______位置,X處于______位置(限選“體心”、“頂點(diǎn)”、“面心”或“棱心”進(jìn)行填空)。
③CH3NH3PbI3晶體的晶胞參數(shù)為a nm,其晶體密度為dg·cm-3,則阿伏加德羅常數(shù)的值NA的計(jì)算表達(dá)式為_________。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】已知溶液中存在平衡:Ca(OH)2(s)Ca2+(aq)+2OH-(aq) ΔH<0,下列有關(guān)該平衡體系的說法正確的是
①升高溫度,平衡逆向移動(dòng)
②向溶液中加入少量碳酸鈉粉末能增大鈣離子的濃度
③除去氯化鈉溶液中混有的少量鈣離子,可以向溶液中加入適量的NaOH溶液
④恒溫下,向溶液中加入CaO,溶液的pH升高
⑤給溶液加熱,溶液的pH升高
⑥向溶液中加入Na2CO3溶液,其中固體質(zhì)量增加
⑦向溶液中加入少量NaOH固體,Ca(OH)2固體質(zhì)量不變
A. ①⑥B. ①⑥⑦C. ②③④⑥D. ①②⑥⑦
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】36.5 g HCl溶解在1 L水中(水的密度近似為1 g·mL-1),所得溶液的密度為ρ g·mL-1,質(zhì)量分?jǐn)?shù)為w,物質(zhì)的量濃度為c mol·L-1,NA表示阿伏加德羅常數(shù),則下列敘述中正確的是( )
A. 所得溶液的物質(zhì)的量濃度為1 mol·L-1
B. 所得溶液中含有NA個(gè)HCl分子
C. 36.5 g HCl氣體占有的體積為22.4 L
D. 所得溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù):w=
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】25 ℃時(shí),有c(CH3COOH)+c(CH3COO)=0.1 mol·L1的一組醋酸、醋酸鈉混合溶液,溶液中c(CH3COOH)、c(CH3COO)與pH的關(guān)系如圖所示。下列有關(guān)溶液中離子濃度關(guān)系的敘述不正確的是
A. pH=5.5的溶液中:c(CH3COO—)>c(CH3COOH)>c(H+)>c(OH)
B. pH=3.5的溶液中:c(Na+)+c(H+)c(OH)+c(CH3COOH)=0.1 mol·L1
C. W點(diǎn)所表示的溶液中:c(Na+)+c(H+)=c(CH3COOH)+c(OH)
D. 向W點(diǎn)所表示的1.0 L溶液中通入0.05 mol HCl氣體(溶液體積變化可忽略):c(H+)=c(CH3COOH)+c(OH)
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】有人設(shè)計(jì)以苯為原料合成一種新型涂料固化劑F的路線如下:
(1)A的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式為_____________________________。
(2)D的官能團(tuán)名稱為__________________。在D的同分異構(gòu)體中,與D含有相同種類和數(shù)目的官能團(tuán),且核磁共振氫譜的峰面積之比為3:1:1 的有機(jī)物的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式為_________。
(3)反應(yīng)B→C的化學(xué)方程式為(注明反應(yīng)條件)_____________。
(4)寫出反應(yīng)類型: ① B→C: _____________; ② C→D:________; ③ E→F:____________
(5)上述合成路線主要缺陷是步驟A→B的反應(yīng), 該步驟存在缺陷的原因是_____________
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】完成下列實(shí)驗(yàn)所選擇的裝置或儀器(夾持裝置已略去)正確的是
選項(xiàng) | A | B | C | D |
實(shí)驗(yàn) | 用CCl4提取溴水中的Br2 | 從食鹽水中提取NaCl固體 | 從KI和I2的固體混合物中回收I2 | 配制100 mL 0.100 0 mol·L-1 K2Cr2O7溶液 |
裝置或儀器 |
A. A B. B C. C D. D
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】銅是人類發(fā)現(xiàn)最早并廣泛使用的一種金屬;卮鹣铝袉栴}:
(1)實(shí)驗(yàn)室使用稀硫酸和H2O2溶解銅片,該反應(yīng)的化學(xué)方程式為__,當(dāng)6.4g銅溶解時(shí)轉(zhuǎn)移電子物質(zhì)的量為___mol;
(2)電子工業(yè)使用FeCl3溶液刻蝕印刷電路板銅箔,寫出該過程的離子方程式____;
(3)溶液中Cu2+的濃度可采用碘量法測(cè)得:
①2Cu2++5I-=2CuI↓ +I3- ②I3-+2S2O32-= S4O62-+ 3I-
反應(yīng)①中的還原劑為____,現(xiàn)取10.00mL含Cu2+的溶液,加入足量的KI充分反應(yīng)后,用0.100 mol/L的Na2S2O3標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定至終點(diǎn),消耗Na2S2O3溶液25.00mL,此溶液中Cu2+的濃度為__mol/L。
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