科目: 來(lái)源: 題型:
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晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟為:①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅;②粗硅與干燥的HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2;③SiHCl3與過(guò)量的氫氣在1000℃~1100℃時(shí)反應(yīng)制得純硅。已知SiHCl3能與水劇烈反應(yīng),且在空氣中易自燃。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)第①步制備粗硅的化學(xué)方程式為_(kāi)__________________。
(2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)為33.0℃)中含有少量的SiCl4(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl3常用的方法為_(kāi)___________。
(3)用SiHCl3與過(guò)量的氫氣反應(yīng)制備純硅的裝置如下圖所示(熱源及夾持裝置略去)。
①裝置B中的試劑是______,裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是________。
②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是_________________,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是_______,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)___
_____________________。
③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢驗(yàn)實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及____________。
④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需加入的試劑是__________(填寫(xiě)字母代號(hào))。
a.碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na2SO3溶液
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NaCl晶體中最小重復(fù)單元(晶胞)如下圖所示。已知氯化鈉的摩爾質(zhì)量為Mg?mol-1,一定條件下NaCl晶體中最鄰近的鈉離子和氯離子中心間的距離為acm,晶體的密度為bg?cm-3。則下列敘述中正確的是( )。
A.每個(gè)Na+周?chē)罱业染嚯x的Cl-所圍成的空間構(gòu)型為正六面體
B.每個(gè)Na+周?chē)罱业染嚯x的Cl-所圍成的空間構(gòu)型為正八面體
C.阿伏加德羅常數(shù)NA可表示為M/2a3b
D.阿伏加德羅常數(shù)NA可表示為4M/a3b
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