24.膠體的帶電:一般說來.金屬氫氧化物.金屬氧化物的膠體粒子帶正電.非金屬氧化物.金屬硫化物的膠體粒子帶負電. 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

(2013?瀘州一模)某含鎳(Ni)廢催化劑中主要含有Ni,還含有Al、Al203、Fe及其他不溶于酸、堿的雜質(zhì).部分陽離子以氫氧化物形式完全沉淀時溶液的pH如下:
 沉淀物  Al(OH)2  Fe(OH)3 Fe(OH))2  
Ni (OH)2
 PH  5.2  3.2  9.7  9.2
欲從含鎳廢催化劑中制得NiSO4?7H2O晶體,其流程如下:

請根據(jù)以上信息和流程圖,回答下列問題:
(1)“堿浸”的目的是除去含鎳廢催化劑中的
Al、Al2O3
Al、Al2O3

(2)“酸浸”時所加入的酸是
H2SO4
H2SO4
_.酸浸后,濾液②中可能含有的金屬離子是
Ni2+、Fe2+
Ni2+、Fe2+
.(用離子符號表示).
(3)“調(diào)pH為2-3的目的是
防止在濃縮結(jié)晶過程中Ni2+水解
防止在濃縮結(jié)晶過程中Ni2+水解

(4)步驟A的操作順序是加熱濃縮、冷卻、
結(jié)晶
結(jié)晶
過濾
過濾

(5)NiSO4在強堿溶液中用NaC1O氧化,可制得堿性鎳鎘電池電極材料NiOOH.該反應的離子方程式為
2Ni2++ClO-+4OH-=2NiOOH↓+Cl-+H2O
2Ni2++ClO-+4OH-=2NiOOH↓+Cl-+H2O

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(2006?沈陽一模)在隔絕空氣的情況下,9.8gFe、Mg混合物溶于一定量某濃度的稀硝酸中,當金屬完全溶解后,收集到0.2molNO氣體,在反應后的溶液中加入足量的燒堿溶液,可生成氫氧化物沉淀的質(zhì)量為( 。

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蛇紋石礦可看作由MgO、Fe2O3、Al2O3、SiO2組成.由蛇紋石制堿式碳酸鎂的實驗步驟如下:
室溫下,相關(guān)金屬氫氧化物沉淀的KSP見下表1
氫氧化物 Fe(OH)3 Al(OH)3 Mg(OH)2
(溶度積)KSP 4.0×10-38 1.25×10-33 1.8×10-11
注:①lg2=0.3,②溶液中某離子的濃度小于1.0×10-5 mol?L-1,可認為該離子沉淀完全.下列說法不正確的是( 。

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(2013?無錫一模)信息時代產(chǎn)生的大量電子垃圾對環(huán)境構(gòu)成了極大的威脅.某化學興趣小組將一批廢棄的線路板簡單處理后,得到主要含Cu、Al及少量Fe、Au、Pt等金屬的混合物,設(shè)計了如下制備硫酸銅晶體和硫酸鋁晶體的路線:

部分陽離子以氫氧化物形式沉淀時溶液的pH見下表:
沉淀物 Fe(OH)2 Fe(OH)3 Al(OH)3 Cu(OH)2
開始沉淀 5.8 1.1 4.0 5.4
完全沉淀 8.8 3.2 5.2 6.7
請回答下列問題:
(1)第①步操作前需將金屬混合物進行粉碎,其目的是
增大金屬和酸的接觸面積,加快反應速率
增大金屬和酸的接觸面積,加快反應速率

(2)某學生認為用H2O2代替濃HNO3更好,理由是
不產(chǎn)生對環(huán)境有污染的氣體
不產(chǎn)生對環(huán)境有污染的氣體
;
請寫出Cu溶于H2O2與稀硫酸混合溶液的離子方程式:
Cu+H2O2+2H+═Cu2++2H2O
Cu+H2O2+2H+═Cu2++2H2O

(3)第②步中應將溶液pH調(diào)至
5.2~5.4
5.2~5.4

(4)由濾渣2制取Al2(SO43?18H2O,探究小組設(shè)計了兩種方案:

你認為
種方案為最佳方案,理由是
甲得到產(chǎn)品純度高
甲得到產(chǎn)品純度高
、
原子利用率高
原子利用率高

(5)為了測定硫酸銅晶體的純度,某同學準確稱取4.0g樣品溶于水配成100mL溶液,取10mL溶液于帶塞錐形瓶中,加適量水稀釋,調(diào)節(jié)溶液pH=3~4,加入過量的KI,用0.100 0mol?L-1Na2S2O3標準溶液滴定至終點,共消耗14.00mL  Na2S2O3標準溶液.上述過程中反應的離子方程式如下:
2Cu2++4I-═2CuI(白色)↓+I2S2O
 
2-
3
+I2═2I-+S4O
 
2-
6

①樣品中硫酸銅晶體的質(zhì)量分數(shù)為
87.5%
87.5%

②另一位同學提出通過測定樣品中硫酸根離子的量也可求得硫酸銅晶體的純度,其他同學認為此方案不可行,理由是
樣品中含有Na2SO4等雜質(zhì)
樣品中含有Na2SO4等雜質(zhì)

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信息時代給人們的生活帶來了極大的便利,但同時也產(chǎn)生了大量的電子垃圾.某化學興趣小組將一批廢棄的線路板簡單處理后,得到了主要含Cu、Al及少量Fe、Au等金屬的混合物,并設(shè)計了如下制備硫酸銅晶體和硫酸鋁晶體的路線:
部分陽離子以氫氧化物形式沉淀時溶液的pH見下表:
沉淀物 Fe(OH)3 Al(OH)3 Cu(OH)2
開始沉淀物 1.1 4.0 5.4
完全沉淀物 3.2 5.2 6.7
(1)過濾操作中用到的玻璃儀器有
燒杯、漏斗、玻璃棒
燒杯、漏斗、玻璃棒

(2)Cu可溶于稀硫酸與H2O2的混合溶液,其離子方程式是
Cu+H2O2+2H+═Cu2++2H2O
Cu+H2O2+2H+═Cu2++2H2O

(3)濾渣a的主要成分是
Au
Au

(4)步驟③中X的取值范圍是
5.2≤X<5.4
5.2≤X<5.4

(5)某小組甲同學提出如下方案測定CuSO4?5H2O晶體的純度.取b g試樣配成100m L溶液,每次取20.00m L,消除干擾離子后,用c mol?L-1EDTA(H2Y2-)標準溶液滴定至終點,平均消耗EDTA溶液12.00m L.滴定反應如下:Cu2++H2Y2-═CuY2-+2H+
①寫出計算CuSO4?5H2O質(zhì)量分數(shù)的表達式w=
15c
a
15c
a

②下列操作會導致CuSO4?5H2O含量的測定結(jié)果偏高的是
c
c
(填字母).
a.未干燥錐形瓶 b.滴定終點時滴定管尖嘴中產(chǎn)生氣泡c.未除凈可與EDTA反應的干擾離子
③該小組乙同學提出通過直接測定樣品中SO42一的量也可求得硫酸銅晶體的純度,老師審核后予以否決,其原因是
樣品中的雜質(zhì)Na2SO4中也含有SO42-
樣品中的雜質(zhì)Na2SO4中也含有SO42-

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